La validation de méthode en spectrométrie d'émission optique à source plasma (ICP-OES) : de l'échantillon au résultat [texte imprimé] /
Karine Vielle, Directeur de publication ;
Fabien Pilon, Directeur de publication ;
Alexandre Labet, Directeur de publication . -
Les Ulis [France] : EDP Sciences, 2017 . - 307 p. : ill. ; 24 cm.
ISBN : 978-2-7598-2062-7
Bibliogr. p. 293-303
Langues : Français (
fre)
| Mots-clés : |
Spectroscopie
Mesure -- Méthodes statistiques
Mesure -- Qualité -- Contrôle |
| Index. décimale : |
543.42 Analyse spectrale |
| Résumé : |
L'objectif de cet ouvrage est de guider l'analyste durant tout le processus de validation de sa mesure et de l'aider à garantir la maîtrise de ses principales étapes : gestion administrative et physique des échantillons au laboratoire; préparation et traitement de ceux-ci avant mesure; qualification et suivi de l'appareillage; réglages instrumentaux et stratégie d'étalonnage; exploitation des résultats en termes de justesse, fidélité, incertitude et exactitude (avec la détermination pratique du « profil d'exactitude). Le guide s'appuie pour cela sur la terminologie la plus actuelle et sur de nombreux exemples et illustrations destinés à faciliter la compréhension et la constitution des dossiers de validation de méthode. |
| Note de contenu : |
Au sommaire :
1. Introduction.
2. Définitions.
3. Gestion des échantillons au laboratoire.
4. Préparation et traitement des échantillons avant analyse.
5. Qualification et suivi de l"appareillage.
6. Réglages instrumentaux et stratégie d'étalonnage.
7. Exploitation des résultats.
8. Dossier de validation. |
La validation de méthode en spectrométrie d'émission optique à source plasma (ICP-OES) (2017)
