| Titre : | Process technology |
| Titre de série : | Silicon processing for the vlsi era, vol 1 |
| Auteurs : | Wolf, Stanley, Auteur ; Tauber , Richard N, Auteur |
| Type de document : | texte imprimé |
| Mention d'édition : | 2 éd |
| Editeur : | Lattice Press, 2000 |
| ISBN/ISSN/EAN : | 978-0-9616721-6-4 |
| Format : | XXXVI-890 P / ill. / 25 cm |
| Note générale : | Bibliographie en fin de chapitres. Index |
| Langues : | Anglais |
| Index. décimale : | 621.3.049.77 (Micro-électronique.Circuits intégrés.) |
| Tags : | Electrotechnique circuit intégrés intégration silicon vlsi |
| Note de contenu : |
Summary:
1.Silicon: single-crystal growth & wafer preparation 2.Crystalline defects and gettering 3.Vacuum technology for ulsi applications 4.Basics of thin films 5.Cleaning technology for ulsi 6.Chemical vapor deposition of amorphous and polycrystalline films 7.Silicon epitaxial film growth 8.Thermal oxidation of silicon 9.Diffusion in silicon 10.Ion implantation for ulsi 11.Aluminum thin films and physical vapor deposition in ulsi 12.Lithography I: optical photoresists - material properties and process technology 13.Lithography II: optical aligners and photomasks 14.Dry etching for ulsi 15.Multilevel metallization for ulsi 16.Cmos process integration 17.Assembly and packaging for ulsi appendices |
Exemplaires (1)
| Cote | Support | Localisation | Section | Disponibilité | Etat_Exemplaire |
|---|---|---|---|---|---|
| 621.3.049.77 WOL | Papier | Bibliothèque Centrale | Electrotechnique | Disponible |
