| Titre : | The submicron mosfet |
| Titre de série : | Silicon processing for the vlsi era, vol 3 |
| Auteurs : | Wolf, Stanley, Auteur |
| Type de document : | texte imprimé |
| Editeur : | Lattice Press, 1995 |
| ISBN/ISSN/EAN : | 978-0-9616721-5-7 |
| Format : | XXII-722 p. / ill. / 24 cm |
| Note générale : | Bibliogr. Index |
| Langues : | Anglais |
| Index. décimale : | 621.3.049.77 (Micro-électronique.Circuits intégrés.) |
| Tags : | Circuits intégrés à très grande échelle Silicium Applications industrielles |
| Résumé : | The Submicron MOSFET. Treats the topics of submicron MOSFET device physics and the relationship between such device physics and submicron MOSFET fabrication. DLC: Integrated circuits -Very large scale. |
| Note de contenu : |
Summary:
1.Role of process & device models in microelectronics technology 2.Numerical methods for solving the partial differential equations which model submicron devices and processes 3.Basic MOS physics & MOS capacitors 4.Long-channel MOSFETs 5.The submicron MOSFET 6.Isolation Structures in CMOS 7.Thin gate oxides: growth & reliability 8.Well formation in CMOS 9.Hot-carrier resistant processing & device structures |
| ISBN 13 : | 978-0961672157 |
Exemplaires (1)
| Cote | Support | Localisation | Section | Disponibilité | Etat_Exemplaire |
|---|---|---|---|---|---|
| 621.3.049.77 WOL | Papier | Bibliothèque Centrale | Electrotechnique | Disponible | Consultation sur place |
