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Handbook of semiconductor wafer cleaning technology

Public ISBD Titre : Handbook of semiconductor wafer cleaning technology : science, technology, and applications Type de document : texte imprimé Auteurs : Werner Kern, Editeur scientifique Editeur : New Jersey : Noyes publications Année de publication : 1993 Collection : Materials science and process technology series Importance : XX-623 p. Présentation : ill. Format : 24 cm ISBN/ISSN/EAN : 978-0-8155-1331-5 Note générale : Bibliogr. p. 607-610. Index Langues : Anglais (eng) Mots-clés : Semiconductor  wafers  --  Cleaning Semiconducteurs  --  Entretien Index. décimale : 621.382(035) Dispositifs électroniques utilisant les effets des corps solides. Dispositifs semi-conducteurs. (Handbook) Résumé : This book brings together into one volume all pertinent knowledge on semiconductor wafer cleaning and the scientific and technical disciplines associated directly or indirectly with this subject. The book provides the first comprehensive and up-to-date co. Note de contenu : Sommaire * Introduction and overview. * Wet-chemical processes. * Dry cleaning processes. * Analytical and control aspects. * Conclusions and future directions. Handbook of semiconductor wafer cleaning technology : science, technology, and applications [texte imprimé] / Werner Kern, Editeur scientifique . - Noyes publications, 1993 . - XX-623 p. : ill. ; 24 cm. - (Materials science and process technology series) . ISBN : 978-0-8155-1331-5 Bibliogr. p. 607-610. Index Langues : Anglais (eng) Mots-clés : Semiconductor  wafers  --  Cleaning Semiconducteurs  --  Entretien Index. décimale : 621.382(035) Dispositifs électroniques utilisant les effets des corps solides. Dispositifs semi-conducteurs. (Handbook) Résumé : This book brings together into one volume all pertinent knowledge on semiconductor wafer cleaning and the scientific and technical disciplines associated directly or indirectly with this subject. The book provides the first comprehensive and up-to-date co. Note de contenu : Sommaire * Introduction and overview. * Wet-chemical processes. * Dry cleaning processes. * Analytical and control aspects. * Conclusions and future directions.

Exemplaires

Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité	Etat_Exemplaire
049366	621.382(035) HAN	Papier	Bibliothèque Centrale	Electronique	Disponible	En bon état